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GB/T 43313-2023碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法

标准编号:GB/T 43313-2023
标准名称:碳化硅抛光片表面质量和微管密度的测试 共焦点微分干涉法
英文名称:Test method for surface quality and micropipe density of polished silicon carbide wafers—Confocal and differential interferometry optics
资料大小:
标准页数:9
发布日期:2023-11-27
实施日期:2024-06-01
标准状态:现行 即将实施
发布部门:国家市场监督管理总局 国家标准化管理委员会
起草单位:中国电子科技集团公司第四十六研究所、山东天岳先进科技股份有限公司、常州臻晶半导体有限公司、湖州东尼半导体科技有限公司、厦门坤锦电子科技有限公司、中国电子科技集团公司第十三研究所、广东天域半导体股份有限公司、有色金属技术经济研究院有限责任公司等
替代情况:
更新日期:2024-01-23
下载点数:70点
标准简介
本文件规定了4H碳化硅抛光片表面质量和微管密度的共焦点微分干涉测试方法。
本文件适用于直径为50.8 mm、76.2 mm、100 mm、150 mm、200 mm,厚度范围为300 μm~1 000 μm碳化硅抛光片的表面质量和微管密度的测试。
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